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首发：~第225章 请求指导
六月中旬。
米国和苏方暗中发生的调查与行动，沈永健一无所知。
他如今心思完全投入到了581工程上，全力攻克集成电路。
保密车间内，这次的研制队伍可谓豪华。
计算机研究所的吴培书主任，卓邵文研究员，周克勤这三位都参与了他的研制项目。
除此之外，沈永健自然带上了自己的两位学生。
自这次晋省基地回来，他对自己的学生也重新提高了关注。
剩下还有研发处的同志，以及丁八一这位华清的本科学生。
原先宽敞的保密车间，人一多再加上东西一多，空间也显得紧张起来。
“永健同志，北春光电所来消息了。”
…
“怎么样？他们有信心么？”
…
“好像信心不足…主要提及您要求的投影物镜标准太高，国际上目前都没有这么高的标准光刻物镜。”
卓邵文此刻皱着眉，面对北春光电所的回应有些着急和无奈。
集成电路的研制开启，他负责的任务便是其中最关键的二代光刻机研制。
相比起第一代接触式光刻机，二代光刻机的设计图纸已由沈永健给出。
采用的是步进式投影光刻，相比第一代，由于无需掩膜版接触硅片，它能彻底解决掩膜版污染和磨损问题。
同时，更高标准的物镜、步进动作的高精度定位及流程可控性，使得二代光刻机的制程理论上会提升到亚微米级。
这其中高标准的光学镜头便是光刻机必须跨过的一步。
“材料问题么？这一块我来想办法。”
镜头需要的高标准光学玻璃，沈永健原先便有思考过。
主要难点在工艺上，也就是内部应力的消除，同时需保证折射率高度均匀。
想做到就只能从原料纯度上做考量，除此之外便是精密退火炉，这些东西他虽然还未能完全设计出成品，但都在项目研制前有过考量。
“不单是材料问题，而是研制之前关于预期镜头的模型构建工作，若是只凭人力计算，根本没得搞。”
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