第467章 把ARM打成筛子(1/4)

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第467章把ARM打成筛子

「获得VEU认证的企业可免于逐案申请出口许可证，直接采购美国技术设备，显著提升供应链效率。」

陈学兵看完资料上这一句，抬头道：「就这一句解释吗？没有其他的？具体适用于哪些方面的采购？」

任颖摇了摇头：「这一句还是杜克林奇发过来的，我查了，网上没有关于这项许可的资料，应该是个新许可。」

「翻墙查了吗？」

「翻了，也没有。」

陈学兵再次看了一眼那行字，嘴角有了一丝笑容，但因不确定性又压了下去，当即起身。

「邮件联系杜克林奇，我在办公室等你回复。」

中国的上午，正是华盛顿的晚上八九点。

中午时分，终于等到了任颖的回复，进门的第一句话就让陈学兵振奋。

「董事长！可以直接获取指定EDA工具，IP核，设计软体，测试设备等受控物项，无需逐笔申请美国出口许可，还有，可以跟美系IP厂商建立低风险合作通道，优先获得技术支持与版本更新！」

陈总有些震惊地站起来：「可以拿到最先进位程？」

「不是不是。」任颖赶紧否认：「是优先获得「已开放的制程」，可以把几个月的审批时间缩短到两个周，并且不需要逐项申请，相当于至少能给我们节省一年，而且90nm成熟制程物项就包含在这个VEU制度落地的首批许可范围内，只要宣布落地，就算正式放开了。」

「也就是说...只要拿到VEU，我们马上就可以在国内设计90nm了。」

陈学兵背著手来回踱步。

90nm制程即使正式放开，对中国晶片设计厂商来说也需要登上数以经年的时间，因为那边宣布放开了，进口依然需要申请，这个就得靠关系运作，BIS部门短则几个月能通过，长则一年不搭理你都有可能。

那这个许可确实是有用的，能节省很多时间。

而且...可以跟美系IP厂商建立低风险合作通道，那就代表台积电也没理由拒绝他了，可以直接跟台积电对接先进位程代工。

他转念一想，道：「光刻机呢？DCT能不能申请？」

任颖似乎早就知道他会想到这里，立即道：「不包括先进位程制造设备，比如ASML

DUV光刻机整机的采购权，不提供EDA核心源码，并且受地缘监管约束，敏感领域，比如军事和航天应用会被远程禁止，且授权随时可被取消。」

陈学兵皱了皱眉：「那光刻机相关材料呢？行不行？」

「我不清楚DCT有哪些具体材料需要特殊许可，所以没问。」

「雷射光源器件啊！还有德国的物镜，美国高精度温控、去泡传感器，空气承轴，日本抗水光刻胶！」

陈学兵有点恨铁不成钢，跟任颖科普起来，一口气报了诸多核心器件。

而且还是搞浸没式DUV用的。

「美国本土没有成熟光刻机厂商，他们最后一家整机厂SVG，2001年就被ASML收购了，按理说我们搞光刻机整机，在美国国内没有掣肘力量，他们虽然没有整机厂，却在光刻机上游有很多厂商，Cymer的193nmArF光源，应用材料、泛林、科天都在提供光刻机配套设备，如果能获得他们的供应链进口许可，DCT可以快速完成干式，开始浸没式研发。」

任颖闻言感觉到了重要性，眼里有些工作失误的愧疚。

「那我现在去问。」她说著转身就要走。

「不用了！」陈学兵抬手，又开始自说自话：「不太可能...美国能源部和英特尔成立的EUVLLC现在已经明确支持ASML，90nm以下的先进位程设备有明确的受控材料清单，肯定不可能对DCT放开的...不过90nm的光刻机材料...干式光刻机材料，0.75NA以内的光学系统，熔融石英透镜，于式光路，应该都在许可内，而且拿到这个许可说不定能去日本和德国获得更大的合作空间，我看你不要问他许可范围有哪些了，免得人家难做，就说我们投资了一家香港医疗影像设备厂也需要这个许可，看看他们能不能操作。」