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首发：~第245章 你难道连这个也懂
「数据结果出来了吗？」
此话一出，也瞬间吸引现场所有人的目光。
「报告在这里。」实验室工作人员，点点头主动走过去把文件递到徐铭手中。
徐铭接下打量上去，约摸过去几分钟时间，方合上报告转递给身旁的其他人翻阅。
「你们也看看吧。」
口中话音前脚刚落下，紧跟在后面又详细分析。
「电晶体性能未能达到预期，开关速度比璇玑系统预测值慢了15%左右，且波动范围也比较大。」
「加上漏电流也比预测值高出一个量级，这会严重影响晶片的功耗出现失效「」
根据这几项测试的结果看，实际流片数据，根本达不到璇玑系统的数字流片，这样的良品率，可没法用于商业生产线的使用。
必须找到问题将其解决。
很快。
伴随大家都看完报告，人群中的苏振豪率先开口，依旧坚持自己的判断。
「璇玑系统的模型算法，经过了无数次验证，预测数值是不可能出现问题的。」
眼看众人要针对此事召开讨论时，只听徐铭再次开口拍板为情况做出决断，显然通过这些数据报告，已然成功找到了问题的真正所在。
「问题不在于我们的设计软体，也不在逐光极紫外光刻机的光学投影上，如果我的判断没有错，应该是光刻胶在响应极紫外光时发生了，模型之外的化学反应暴走。」
「由光刻胶响应迟缓随机，引起图案边缘随机溃散。」
「进而破坏了电晶体的电学特征。」
「周院研发的新一代光刻胶，虽然实现技术突破，但仍旧没能达到逐光和璇玑的要求。」
「我们的设计软体和光刻机，在技术上与海外分属于不同的技术路线，要想真正发挥出最大优势，成为世界上最先进的高端晶片生产线，必须为他们量身打造一款国产高端光刻胶。」
当徐铭的话音传到房间每个人耳中，大家心里也不免感到五味杂陈。
面对这样的一个结果，不知道该高兴还是叹气。
首次全链路功能验证流片，在一定程度上，证明了逐光极紫外光刻机，和璇玑系统EDA算法工具的成功，单凭这两项成果自然值得高兴庆贺。
然却也发现了光刻胶的问题，依旧无法实现真正的国产化高端晶片制造。
周启深看到结果虽情绪短暂低落，但毕竟是国内化学领域的顶尖专家，他很快便调整好了自己的心态。
待目光重新浮现坚定之色时，立刻向余高远说话。
「请院里和领导放心，我们化学研究所，保证在一年时间内找到并解决光刻胶响应迟缓随机。」
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