第661章 光刻机的发展(2/2)

首发：~第661章 光刻机的发展

随后又致电英特尔，对他们表示祝贺的同时也提出继续开发更好的处理器以及存储器和内存。

同时聂鹏飞也亲笔写下一封长信，详细阐述了未来计算机技术发展的前景，希望京城能开放部分红星实验室的研究成果。

不管是申请国际专利还是进行专利授权，都是商业开发的一种模式。既然国内不具备大规模生产的能力，何不进行有限度的开放换取一些用得上的设备？

可惜聂鹏飞的信送到京城后就石沉大海，一连几个月过去也没有收到丝毫回信，就连聂鹏飞动用京城的关系也没有打听到丝毫有用的信息。

事实上这时候的京城高层也十分苦恼，他们也通过各种渠道了解了聂鹏飞说的微型计算机，并且通过特殊渠道也私下里弄到了一台成品。

不过经过专家团队的一致评估之后，都认为红星实验室的成品不管是理念上还是成品上，起码比这台计算机超前十到二十年，如果真的对外开放进行专利申请反而会资敌。

得到这个结论之后，一众高层集体沉默。他们并不怀疑聂鹏飞会资敌，但是从他们的角度来看，现在确实不是开放技术的好时机。可是聂鹏飞情真意切的长信，里面很多内容说的有理有据。

作为看过《大国崛起》并且知道聂鹏飞就是作者的他们，自然不会轻视聂鹏飞提出的各种论断和推测。所以左右为难之下京城干脆做出不予回复的态度。

而且根据专家团的分析，他们也得出结论：国内并不是完全没有自主规模化生产的可能。其中最主要的芯片和集成电路国内都有望在未来一段时间内突破生产瓶颈。

其实这时候的国内在前沿科技领域并不算特别落后，跟美苏之间的差距也不过是工业方面变现的生产能力。

就比如生产芯片的光刻机技术，就有包括华科、1445电子所、机电部45所等多家机构院所在研究。

这一时期主流上仍然使用的是接近式光刻机，这时期的掩模版不与硅片直接接触，而是在光刻机中加入测量工具，让两者间的距离尽量贴近。

但是光具有衍射性，会造成投影边缘模糊，进而造成精度下降、有较大的投影误差。

直到1974年美国PE推出投影式光刻机，把掩模版上的图形经过三次折射之后投射在硅片上，这样就能有效消除误差达到理想的分辨率，良品率直接从10%提高到70%以上。从而让芯片的价格大幅度下降。

后来在1978年GCA公司又推出DSW4800步进投影式光刻机，把掩模版上的图形缩小到原有的四分之一到五分之一，然后再投射到硅片上，一举提高了曝光强度和分辨率上限，让光刻机精度进入微米级。

而红星实验室在聂鹏飞的引导下，一开始的发展方向就是投影式，并且在机电部45所及后来的西山试验基地的配合下，实验性的造出了第一台投影式光刻机。

虽然各方面可能还不如后来PE推出的光刻机，而且良品率更是低到惨不忍睹的3%，但总归是走在正确的道路上。