科技入侵现代

第413章 我们就差这张牌了!(1/4)

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首发:~第413章 我们就差这张牌了!

其他专家固然没有办法从专业的角度听懂其中的难度,但光是凭借直觉就能明白这有多难了。

用一个拥有近乎无穷解空间的、典型的NP-hard问题,这些形容词和最后的名词,听起来就觉得困难。

近乎无穷解,在数学知识大约等于数学系大一大二学生的工业专家们看来,和近乎无法求解没有区别。

坐在魏哲边上的专家,看他的脸色也能看出端倪,看魏哲一副惊呆的样子,就知道林燃又做了什么惊天动地的结果出来。

梁孟松举手,林燃点了点头:“梁工,你说。”

“林总,”梁孟松的语气很沉重,“您从算法层面为我们提供了解决方案,现在我们从理论上能做到。

但是在现实世界中要到,我们需要有精度足够高的模板,有了这样的模板,我们才能用NIL光刻机去印所谓的超构透镜,才能拥有传统路线光刻机所需的镜头。

我解释一下,我们要制造的,是带有5纳米级别结构的超构透镜母版模板。

而要制造这个母版,我们需要一台电子束写入机。”

“这东西,就像一支笔。”梁孟松努力用最简单的语言解释,“光刻机,像一台巨大的印刷机,可以把模板上的图案,一秒钟复印几十次。

而电子束写入机,就是那支用来制作印刷母版的、最原始的笔。

你的笔有多细,决定了你的母版有多精细。

而我们,我们国产的、最先进的电子束写入机,能稳定刻画的最小线宽,是65纳米。

用65纳米的笔,去雕刻5纳米的图案,这是不可能的。”

多电子束写入机是一种用于高精度图案转移的先进半导体制造设备,通过使用多个电子束同时在晶圆上写入图案。

梁孟松说的更常见一点的名词叫掩膜版,光透过掩膜版在硅片上印上图案,掩膜版的精度决定了硅片上集成电路的精度。

用来制作掩膜版的机器就叫多电子束写入机,它一次只能制作一块掩膜版,适用于小批量、高复杂性的图案制造需求。

总结来说,没有最先进的电子束写入机,就无法制造出用于生产最先进芯片的掩膜版。

它是整个半导体制造产业链的“源头”,其战略重要性,丝毫不亚于EUV光刻机本身。

全球最先进的、用于EUV级别的多电子束掩膜写入机,其市场被奥地利的IMSNanofabrication公司,现已被英特尔绝对控股。

另一家霓虹公司NuFlareTechnology也在研发,但市场份额和技术应用广度上都有差距,这是东芝的子公司。

国内的申海微电子旗下也有子公司在负责研发,但精度是90nm到65nm之间。

无论是哪个技术路线的光刻机,都需要有掩膜版,在母版上面去印刷。

会议室里,刚刚因数学突破而燃起的乐观气氛,瞬间被浇灭了。

大家都是业内人士,很清楚梁孟松说的是事实。

没有最顶尖的笔,再完美的设计图也只是一张废纸。

林燃说:“这不是问题,我们虽然没有最先进的笔,但是有次一级的笔。”

林燃看向台下的杨德人说道:“杨院士,你来说说吧。”

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